江苏先科获得用于深紫外光刻胶树脂沉降提纯的反应釜专利有用处理DUV光刻胶树脂扩大过程中残留溶剂多的问题
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江苏先科获得用于深紫外光刻胶树脂沉降提纯的反应釜专利有用处理DUV光刻胶树脂扩大过程中残留溶剂多的问题

2025-12-25 02:30:20 氨基硅烷
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  国家知识产权局信息数据显现,江苏先科半导体新材料有限公司获得一项名为“一种用于深紫外光刻胶树脂沉降提纯的反应釜”的专利,授权公告号CN 223615865 U,请求日期为2024年12月。

  专利摘要显现,本实用新型公开了一种用于深紫外(DUV)光刻胶树脂沉降提纯的反应釜,归于光刻胶技能领域,其包含榜首夹套釜、第二夹套釜和第三夹套釜;所述榜首夹套釜、第二夹套釜和第三夹套釜顺次串联衔接。现存技能DUV光刻胶树脂多为固体出料,残留溶剂及残留未反应物较多,严重影响后续光刻胶功能、稳定性及批次间稳定性,而且其过滤困难下降出产功率。本实用新型可以有用处理DUV光刻胶树脂扩大过程中呈现的残留溶剂多、残留未反应物多、组成排气导致环境污染量大、过滤困难等问题。

  天眼查资料显现,江苏先科半导体新材料有限公司,成立于2016年,坐落无锡市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本102693.1686万人民币。经过天眼查大数据分析,江苏先科半导体新材料有限公司共对外出资了1家企业,参加招投标项目28次,专利信息46条,此外企业还具有行政许可414个。

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