该项目为国内某闻名半导体企业在华南地区新建的12英寸先进制程生产线亿元。因为选用更精细的制程技能，运用更多品种的有机溶剂，对废气处理系统提出了更高要求。
光刻工序：运用PGMEA（丙二醇甲醚醋酸酯）、Ethyl Lactate等光刻胶溶剂
废气总风量达50,000m³/h，有机物总浓度约200-800mg/m³，具有大风量、低浓度的特色。
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